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EVG和SAL拓展合作

材料来源：雅时

EVG工具将加速开发面向异质集成应用的光学技术

晶圆键合和光刻设备供应商EV Group (EVG)与电子系统研究中心Silicon Austria Labs (SAL)围绕异质集成加强了合作。

SAL已在其位于奥地利菲拉赫的MicroFab研发洁净室设施中接收并安装了多套EVG光刻和光刻胶处理系统。其目的是加速开发面向异质集成应用的新光学技术，包括用于微型相机和微镜的晶圆级光学器件、衍射光学器件、用于自动驾驶和汽车照明的汽车光学器件。

新安装的EVG系统包括LITHOSCALE无掩膜曝光系统、EVG7300自动化SmartNIL纳米压印和晶圆级光学系统，以及多个互补的光刻胶处理系统。

这些系统已加入SAL的现有安装基础，其中含多个EVG键合、掩膜对准和光刻系统，包括首次安装的新一代200 mm版本的EVG150自动光刻胶处理系统。

此外，SAL还与EVG总部的技术开发和应用工程团队（包括NILPhotonics能力中心）密切合作，建立EVG的设备和工艺知识，并开发可转移并扩展为大批量生产的工艺。

Silicon Austria Labs微系统研究部门主管Mohssen Moridi表示：“近期，我们沉浸在一系列尖端研发项目中，其中涉及元光学、集成光子学和MEMS，因此需要使用先进的光刻工具和键合工具。”

“通过与EVG的宝贵合作，我们获得了具有卓越可靠性和精确性的工具，这对成功开展研发工作而言至关重要。值得注意的是，EVG7300 SmartNIL系统已成为一种关键工具，能为新兴光子学及MEMS器件批量生产纳米结构。其应用已延伸到智能照明系统、AR/VR、汽车光学、电信、量子技术等多个领域。”

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