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天岳先进在SiC领域“崭露头角”,保持行业领先

      材料来源:雅时

近日,在《日经新闻》 行业相关报道中,再次提及继美国Wolfspeed、Coherent、日本Resonac等企业之后,BOCSH和英飞凌等国际电子巨头纷纷与天岳先进(SICC)签订长期采购合同。表明天岳先进在实力上已经逐步比肩上述领先的 衬底企业。此外,据日本资深 领域研究人员表示:“天岳先进的 衬底品质已经很高,5年内应该可与(被认为品质第一的)Wolfspeed平起平坐”。天岳先进已跻身世界 第一梯队。

8英寸SiC产业化,蕴含巨大市场潜力

在SiC半导体产业链中,SiC衬底是技术壁垒高、生产难度大且价值占比最高的环节,也是未来 大规模产业化推进的核心环节,其质量对器件的性能影响非常关键

据TrendForce集邦咨询调查,目前SiC产业以6英寸为主流,占据近80%市场份额,8英寸不到1%,但8英寸是进一步提升芯片制备效率,降低SiC器件成本的关键,由此可见, 衬底大尺寸化是市场趋势更是体现企业技术实力的试金石,蕴含着巨大的市场机遇。近年来,国内外企业在8英寸SiC衬底的研发与生产方面,积极加大投入力度,争取先机。

天岳先进重大突破,夺得产业发展先机

天岳先进成立于2010年,是我国最早从事 衬底制备的企业之一,十几年来始终专注于 衬底。目前以6英寸导电型产品为主,满足全球客户需求。产能方面,公司上海临港工厂已进入产品交付阶段,持续发力提升6英寸产品产量,30万片规划产能有望提前达产。通过自主扩径技术制备的8英寸产品,目前也已经具备产业化能力。

2023年6月,天岳先进携液相法8英寸 晶体亮相Semicon China展会,受到了高度关注。公司CTO高超博士在同期举办的功率及 产业国际论坛公开了天岳先进的最新进展。采用液相法制备8英寸 晶体,属业内首创。

 

△6英寸导电型 衬底

△8英寸导电型 衬底

在技术研发方面,公司一直持续保持较高的技术研发投入,积极布局前瞻性技术。除液相法外,在高效制备方面,提升晶体厚度的技术工艺也正在研发中。公司在大尺寸、高效率、高品质方面全面布局,提升技术领先优势。

目前,SiC的应用发展正进入快速车道,新的应用场景不断涌现,对大尺寸 衬底提出了更高的要求。然而,大尺寸 单晶和 制备技术却也面临着诸多挑战,例如极高的技术门槛和较长的扩产周期,加剧了供需缺口。而天岳先进在8英寸 衬底方面的重大突破,具有重要意义。未来,天岳先进将有望继续保持行业领先,迎来长期持续增长的发展机会。

信息来源:日经新闻、TrendForce集邦咨询、天岳先进

 

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