在比之于硅基的IGBT, (SiC)器件的基础特性是导通内阻较低,而耐压、开关 频率和耐受结温较高。当今的移动应用对功率密度提出了极高的要求,原有的模块封装 型式已经日益落后于半导体芯片技术的进展。因此,在应用需求的推动下,近年来在基 础材料、核心连接技术及模块构型等方面都出现了较大的发展,其中, 模块的高 温封装,已然成为了封装技术发展的必然趋势
在纪念 巨头II-VI 成立50 周年两个专题中的第一个专题中, Richard Stevenson 与联合创始人Carl Johnson 讨论了公司的成长岁月
一种利用HVPE 连续生长垂直GaN p-n 二极管的镁掺杂新方法
—金刚石层的生长是通过高密度沉积金刚石纳米颗粒来实现的,它克服了氧化镓的低热 导率。
近日日本先进工业科学技术研究所(AIST) 宣布, 他们成功开发了全球首颗GaN HEMT 与 SiC SBD 的集成原型单芯片。
一个新时代正在召唤,可以利用整个 的优势制备更好器件
—单片集成的III-V 族 器件可以提供高质量的红外检测性能。
在比之于硅基的IGBT, (SiC)器件的基础特性是导通内阻较低,而耐压、开关 频率和耐受结温较高。当今的移动应用对功率密度提出了极高的要求,原有的模块封装 型式已经日益落后于半导体芯片技术的进展。因此,在应用需求的推动下,近年来在基 础材料、核心连接技术及模块构型等方面都出现了较大的发展,其中, 模块的高 温封装,已然成为了封装技术发展的必然趋势