据日媒报道,近日,碳和石墨产品综合制造商东海碳素(Tokai Carbon)拟投资54亿日元(折合人民币约为2.7亿元)在日本神奈川县茅崎市建立一条多晶SiC晶圆专线,并预计将于2024年12月完成建设。
source:东海炭素
东海炭素开发的用于功率半导体的SiC晶圆,被称为“层压SiC晶圆”。层压SiC晶圆是通过将带有预刻槽的单晶SiC晶圆与多晶SiC晶圆键合,然后加热剥离刻槽部分,在作为衬底的多晶SiC晶圆上形成单晶SiC薄膜而制成的。由于单晶SiC层是薄膜,单晶SiC晶圆可重复使用10次以上,一张单晶SiC晶圆可生产10张以上的键合晶圆。
多晶SiC的优点是电阻值约为单晶SiC的1/5~1/4,可以进一步降低功率损耗。与仅使用单晶SiC的晶圆相比,通过使用层压SiC晶圆,可以提高SiC功率半导体的性能,并且可以使系统本身更小、更轻,并且可以提高EV的行驶里程。
此前报道,今年5月,东海炭素与法国半导体材料制造商Soitec就多晶SiC晶圆达成合作,公司将在中长期内为Soitec供应6英寸和8英寸多晶SiC晶圆。
除了在日本茅崎市基地设立多晶SiC专线外,东海炭素还计划在其位于韩国京畿道安城市的现有工厂生产多晶SiC。
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