Vistec 与国家纳米科学中心联合举办研讨会

Vistec 积极拓展中国市场，与国家纳米科学中心联合举办研讨会并参加ChinaNano2011论坛

      德国耶拿和纽约州瓦特弗利特--(美国商业资讯)--Vistec电子束光刻集团公司(www.vistec-semi.com)，世界领先的电子束光刻系统供应商，积极拓展中国市场。Vistec将于2011年9月6日与国家纳米科学中心在北京一起举办电子束曝光机技术研讨会。同期，Vistec还将参与在9月7日至9日举行的ChinaNano2011国际纳米科技论坛(www.chinanano.org)。

      “在过去20多年的发展中，中国取得了另世人瞩目的进步。为了满足快速发展的纳米科学研究挑战，高端电子束曝光机的需求也在不断增长。因此，Vistec希望通过参与更多市场活动，加强和客户互动和交流。”Vistec集团战略市场经理Ines Stolberg女士说道，”这次参与ChinaNANO国际论坛是Vistec中国市场销售策略的一部分，今后，Vistec将举办更多技术研讨会，参与更多展会和更多针对用户的技术支持活动。”

      作为系列市场活动之一，Vistec与位于北京的用户国家纳米科学中心合作，在今年ChinaNano2011论坛活动期间，于2011年9月6日联合举办一场技术研讨会。“通过这个活动，我们将进一步传播先进电子束曝光系统是如何助力中国前沿高科技研究机构，例如我们最近的用户国家纳米科学中心的。” Stolberg说道。

      在研讨会上，Vistec很荣幸的邀请了国内外电子束和纳米科技行业的专家教授做了专题技术演讲。国内著名专家中国科学院微电子研究所的陈宝钦教授以及欧洲著名专家Peter Hahmann博士，来自Fraunhofer HHI的Ralf Steingrueber博士，分别做了关于电子束光刻技术和在不同领域应用电子束光刻技术开展新器件研发应用的报告。

      期间，有来自全国重点高校，科研院所和技术中心的 40名专家学者参加了这次研讨会。

      在ChinaNANO2011论坛期间，Vistec特别展示了EBPG5200系列和EBPG5000系列的高斯束电子束曝光设备。这一系列的产品，同时提供了高精度和高分辨率以及适用多种研发应用的特性，满足了未来科技发展的趋势。在过去的许多年中，已经获得了大量世界各地用户的反馈和好评。Vistec也是工业用高产能的变形束电子曝光机的供应商，提供诸如光罩掩膜板制造和电子束直写生产的设备。

      “整体来看，我们认为Vistec的产品能够满足快速发展的中国市场需求，包括研究开发和产业应用的多重目标”，Stolberg解释道，“我们的专业技术团队很高兴能够在ChinaNANO2011活动上和大家交流分享更多的内容。”

      媒体信息

      Vistec电子束光刻集团

      Vistec电子束光刻集团是一家生产制造和供应电子束光刻系统的国际公司。应用于包括纳米科技，生物纳米科技，微电子，光电子研发到工业用掩膜板制造和电子束硅片直写等领域。Vistec电子束光刻集团包括Vistec光刻公司(Vistec Lithography)和Vistec电子束公司(Vistec Electron Beam)。

      Vistec光刻公司

      Vistec光刻公司研发，生产和销售高斯束技术的电子束光刻系统。Vistec的高斯束电子束光刻系统在全世界范围内广泛的服务于各大研究所，实验室和大学。

      Vistec电子束公司

      Vistec电子束公司提供基于变形束技术的电子束光刻机，世界领先的半导体公司和许多研究所都在使用。Vistec的创新电子束系统适用于芯片制造，集成光器件，同时也包括科学和商用产品的开发应用。