双方将结合A*STAR微电子研究所的200mm SiC试研发线与Centrotherm的工具,以提高基于SiC的器件的性能和可靠性
A*STAR微电子研究所(IME)和Centrotherm已开始合作,通过结合A*STAR微电子研究所的200mm开放式SiC试研发线与Centrotherm的扩散和退火工具,推动SiC技术的发展。
合作旨在利用A*STAR微电子研究所的工艺集成和器件表征能力及Centrotherm的专业工具,为制造基于SiC的器件而开发热工艺,例如优化沟槽、形成栅极氧化物。其目的是提高MOSFET和二极管等基于SiC的器件的性能和可靠性。作为合作的一部分,Centrotherm将在新加坡组建专门的技术团队,提供技术知识、工艺配方、现场支持。
A*STAR微电子研究所执行总监Terence Gan表示:“我们期待与Centrotherm的合作能推动SiC技术的发展。通过结合A*STAR微电子研究所的200mm SiC试研发线与Centrotherm的先进工具,我们可以加快研发速度,更好地满足行业需求。”
Centrotherm首席技术官Helge Haverkamp表示:“A*STAR微电子研究所与Centrotherm的合作标志着SiC技术领域翻开了激动人心的新篇章。双方的共同愿景、专业知识、资源有望推动半导体制造领域的创新、提升行业标准、促进地方发展。随着我们向SiC和电力电子的未来迈进,我们计划针对宽带隙工艺模块,进一步加强扩散和退火的专业化,并将专业技术扩展至SiC、GaN和其他创新宽带隙材料。”
【近期会议】
2024年3月29日14:00,雅时国际商讯联合Park原子力显微镜、蔡司、九峰山实验室即将举办“缺陷检测半导体材料和器件研发和生产的利器”专题会议,助力我国宽禁带半导体行业的快速健康发展!诚邀您参与交流:https://w.lwc.cn/s/IJnYR3