Samco推出等离子增强ALD系统

Samco推出等离子增强ALD系统

        Samco是半导体及相关行业和学术蚀刻、沉积和表面处理设备制造商，推出了新的等离子体增强原子层沉积（PEALD）系统“AD-800LP”。该系统的主要目标是为 （SiC）和氮化镓（GaN）材料的下一代功率器件沉积栅极氧化膜，这将在实现碳中和的方面发挥重要作用。

等离子体增强型ALD系统“AD-800LP”是一种多用途研发系统，除传统的热ALD功能外，还配备了一种独特的ICP等离子体源“Tornado ICP”。AD-800LP通过Tornado ICP实现各种薄膜沉积，例如氧化物或氮化物薄膜，这是Samco的专有等离子体技术，与远程等离子体不同。即使在高压范围内，Tornado ICP也可以在ALD沉积期间实现稳定的等离子体放电。

Samco总裁兼首席运营官Tsukasa Kawabe表示：“我们也在考虑一个集群ALD系统，它可以连接多个反应室进行生产。”Tsukasa补充道：“AD-800LP的推出将大大增强我们在全球ALD设备市场的影响力。”

作为一家全球中型公司，Samco已成功地为电子器件领域提供了多种干式蚀刻系统和等离子增强CVD系统，主要用于 ，如SiC、GaN和GaAs，不仅在日本，而且在美国、欧洲、韩国、中国和中国台湾、东南亚、印度和其他国家。

新成立的纳米薄膜与材料研究中心于2022年2月成立，负责研究和开发独特的薄膜沉积，包括ALD系统。Samco将继续利用我们的“薄膜技术”开发独特的产品并扩大全球销售。

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