使用 WIN 半导体公司最新的 0.1µm GaAs pHEMT 技术制造的 Q、V 和 E波段放大器
高性能射频毫米波半导体解决方案供应商 Altum RF 宣布推出三款新的 GaAs pHEMT MMIC 放大器,针对 Q、V 和 E 波段的应用。
这些紧凑型芯片放大器采用 WIN半导体公司的新一代 PP10-20 GaAs pHEMT 技术,实现了高增益和低噪声,同时通过使用单栅极和单漏极,简化了工程师的设计。这些放大器的亮点包括:
这些器件是: ARF1208 低噪声放大器 - 37-59 GHz,2.5 dB 噪声系数和 50 GHz 时的 26.5 dB 线性增益; ARF1207 线性放大器 - 57-71 GHz,25 dB 增益和 22 dBm P1dB 输出功率;和 ARF1206 低噪声放大器 - 71-86 GHz,22 dB 增益和 4 dB 噪声系数。
WIN 的 PP10-20 技术建立在经过验证且成熟的 PP10-10 平台之上,并针对高达 170 GHz 的应用。作为一个关键的差异化因素,PP10-20 允许在相同的工作电压下大幅增加增益。
“基于我们在 WIN 丰富考验的 0.1 µm 技术积累,以及对建模、设计和仿真工作流程专长,我们在最新发布的 PP10-20 工艺中使用了一系列毫米波产品取得了首次成功,”Altum RF 首席执行官Greg Baker表示。“我们对这一成功感到高兴,这支持了我们为毫米波应用开发前沿组件的战略,我们期待着建立更广泛的产品组合,以满足当今和未来的市场需求。”
WIN半导体技术和战略业务发展高级副总裁 David Danzilio 补充说:“我们很高兴与 Altum RF 合作,利用 WIN 的高性能平台将领先的毫米波产品商业化。该新一代 PP10-20 技术建立在成熟的 PP10-10 平台之上,该平台用于当今部署在无线回程中的许多 E 波段功率放大器。 PP10-20 是一种通用技术,可以实现广泛的毫米波前端功能,并支持放大器在D 波段的性能。 Altum RF 取得的首次成功证实了 PP10-20 平台的可重复性和产业化能力。”
声明:本篇文章属于原创,拒绝转载,如果需要转载,请联系我们,联系电话:0755-25988571。
上一篇:通快公司Trumpf将展示最... | 下一篇:斯特拉思克莱德(Strath... |