最新版ArF受激准分子激光器 GT65A 可缩短光刻光源中断时间

Gigaphoton供给最新版ArF受激准分子激光器GT65A

最大可缩短50%的光刻光源中断时间，为提高光刻光源装置稼动率做出极大贡献，应对半导体需求的不断高涨

日本栃木县小山市--(BUSINESS WIRE)--(美国商业资讯)--半导体光刻光源的主要供应商Gigaphoton株式会社（母公司：栃木县小山市，董事长：浦中克己）发布公告称, 公司1月份已经向客户供给最新半导体产品以满足近年来不断高涨的需求，面向最先进的液浸式漏光（光刻）装置的ArF受激准分子激光器“GT65A”1号机。“GT65A”改善了激光器的稳定稼动性能及制程范围，为提高光刻装置的生产性能做出了极大贡献。

GT65A最多可缩短50%的中断时间，这一特征是通过将作为主要模块的腔体寿命延长30%，并以Gigaphoton迄今为止积累的经验和技术为基础，提高维修效率而实现的。

另外，具有光谱控制功能的稳定化技术“eMPL Solid”，以及控制功能“hMPL”提高了CD的均一性，并且优化程序，使扩展性成为可能。

同时,GT65A实现了不使用氦气的目标，这不仅减轻了环境负荷，而且大幅度降低了未来氦气供给不足以及价格飞涨的风险，为客户提高环境可持续发展及CRS活动做出了贡献。

Gigaphoton董事长浦中克己发表评论说，“近年来半导体市场发展良好，提高光刻装置的稼动率成为各厂家的重要课题。我们将沿着新技术路线图‘RAM Enhancement’，采用新技术，进一步强化并改善光刻光源的可靠性（Reliability）、稼动率（Availability）、维修效率（Maintainability），为半导体制造业做出贡献。”