浸入式微观孔洞增加LED输出
皮质状图案的蓝宝石通过改进材料质量和提取效率提高蓝光LED亮度
两位台湾研究人员展示的蓝宝石的非周期、纳米级图案可以显著提高蓝色LED的输出功率。
新竹清大的Yu-Sheng Lin和Andrew Yeh在此基础上制作的器件可产生60%以上的峰值外量子效率,大约为控制样本的三倍。
Lin和Yeh率先实现的图案处理创建了形态类似人类大脑皮质的皮质状(cortex-like)纳米结构。Yeh表示:“LED的典型纳米结构包括纳米柱、纳米孔和纳米透镜——纳米图案以某种方式精心安排。我们报告的半随机模式可能会带来更好的性能和更低的成本。”
通过将氮化物外延层缺陷密度削减到一至两个数量级,以及源于创建蓝宝石GaN界面附近的空洞而增加的光提取效率,可以实现更亮的LED。这些空洞可减少内部反射。
衬底纳米图形化包括:
通过低压CVD在
在这个图形化蓝宝石上形成的GaN缓冲层MOCVD具有80至150纳米结构,通常间隔为5至150纳米,图2是原子力显微镜的显示。氮化物薄膜的坑密度仅为107至108 cm2。
在这个缓冲层的顶部,研究人员用一个五周期InGaN/GaN作用区沉积了LED结构,并用镁掺杂GaN和AlN超晶格构造了一个30 nm厚电子阻断层。这种增长在一个起控制作用的传统蓝宝石衬底上重复进行。
晶圆级测量显示,在20 mA条件下皮质状图案可将输出功率从13.9 mW增加至33.1 mW。Yeh解释说:“蓝宝石衬底上制作的商业产品通常可下降20 mW至25 mW。”
纳米图案的蓝宝石上生长的LED的一个弱点是容易出现下降,可推动(Crank up)驱动电流至160 mA,而标准和新型LED架构可分别产生100 mW和160 mW。Yeh说,他和他的同事将继续开发效率更高的器件。此外,他们还将开发用于LED的非极性GaN外延层。
图1:采用皮质状纳米结构的纳米图案蓝宝石制作的四步过程包括:(a)在蓝宝石上沉积;(b)湿刻蚀这层膜;(c)用感应耦合等离子体、反应离子刻蚀创建蓝宝石纳米图案;(d)在氢氧化钾溶液中(
图2:原子力显微镜揭示了蓝宝石上形成的非周期图案。
Y.-S. Lin et. al. Appl. Phys. Express 4, 092103 (2011)
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