据媒体报道,MIT(美国麻省理工学院)和芝加哥大学的研究人员开发了一种新技术,可以让芯片按照预定的设计和结构自行组装。这项新技术最厉害的地方在于,它不必像现有的方式那样在硅片上蚀刻细微特征,而是可以利用名为嵌段共聚物(block copolymer)的材料进行扩张,并自行组装成预定的设计和结构。 MIT认为,他们的新技术很容易融入现有生产技术,无需增加太多复杂性。该技术可以应用于7nm生产工艺。在这种情况下,这项技术将有望进一步推进已经濒临瓶颈的“摩尔定律”,从而继续压缩计算设备的成本。 作为摩尔定律的践行者——英特尔,近几年由于这一定律存在的固有局限,在开发芯片技术上步伐已明显放缓。雷锋网了解到,去年9月,英特尔在发布10nm工艺上就已延迟了正式发布的时间——预全年年底发布延迟到今年中期。而7nm工艺则延迟至2022年。 如果MIT开发的这项新技术能早日得到应用,对行业必将是一件利好之事。 然而,据MIT表示,该研究项目的重点是在芯片上自行组装线路,而这恰恰是芯片制造行业最大的挑战之一。并且,这种自组装技术需要向现有的芯片生产技术中增加一个步骤。 所以,MIT开发的这项新技术,如果要投入应用可能还得再耐心等待一段时间。 事实上,目前业内热议的EUV光刻技术也有望实现7nm工艺,这项技术已经成为近年来英特尔、台积电等芯片公司追捧的新宠。甚而有人认为 EUV 光刻能够拯救摩尔定律。但是,据有关业内人士表示:即使投资了数十亿美元研发资金,这种技术依然难以部署。 |
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