BluGlass severs采用全新RPCVD技术生长氮化镓薄膜

近日由国外媒体透露，位于澳洲悉尼的BluGlass公司在采用RPCVD技术对氮化镓薄膜的生成过程中，经验证其杂质的低含量已经能与在MOCVD的生产状态相比较。

BlusGlass公司在发表的声明中说道，公司在采用RPCVD技术制作氮化镓薄膜的纯度已完全符合当前行业内的要求，RPCVD技术全称为远程等离子体化学气相沉积技术。

在经过反复论证实验之后，该公司的技术人员宣布了这一消息，利用RPCVD技术生成氮化镓薄膜时，其碳、氢和氧的杂质含量得到了一定的控制，并始终处于一个低范围区间内。

据悉，此次氮化镓的杂质残留分析是由埃文思分析集团（Evans Analytical Group）所完成的，埃文思是一家全球独立性的材料特性描述公司，分析方法采用的是业界常规的二次离子质谱法（SIMS）。

埃文思分析机构在对BluGlass公司的RPCVD氮化镓制造技术分析之后，其结论是每立方厘米内的碳、氢和氧原子个数小于1x1017这一数值。这一结果页充分肯定了BluGlass公司在利用该技术下生成氮化镓薄膜的技术已经成型，并且与行业现如今普遍采用的MOCVD技术具有等效的电子性质。这一目标的实现也为该公司树立了一座新的里程碑。