SUSS MicroTec和GenISys在接触式光刻模拟软件上进行合作

SUSS MicroTec和GenISys宣布在接触式光刻模拟软件上进行合作

2012年2月21日，德国加尔辛，全球知名的半导体行业及相关市场工艺解决方案提供商SUSS MicroTec ，与杰出的纳米尺度制造软件方案提供者GenIsys公司，日前宣布一项合作，将在SUSS MicroTec的接触式光刻机上捆绑GenISys模拟软件Layout LABTM。

GenIsys的Layout LABTM 已经完成了SUSS MicroTec接触式光刻机目前所有光学系统的精确模型。SUSS MicroTec和GenISys将联手推广带有光刻模拟软件Layout LABTM 的接触式光刻机技术。光刻设备和配套模拟软件的捆绑对于从事器件开发的用户而言，是实现高性价比的关键成功因素。                

“MO曝光光学系统是SUSS目前最复杂的、最新的曝光光学技术，可在接触式光刻机上实现照明整形和掩模版图优化。”SUSS MicroTec集团总裁兼CEO Frank P. Averdung说，“与GenISys模拟软件的结合是一项关键技术，可实现大量不同源图形的轻松建模。”

GenISys副总裁Nezih Unal表示，“Layout LAB专门针对接近式光学光刻，是一个专业的全3D模拟平台，可在大量模拟运算后，优化出掩模版图和曝光条件。节约成本，缩短产品上市时间。”