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Knowmade发布SiC专利分析报告

2022/5/29 8:21:39 材料来源：

垂直整合创新战略与全球专利相结合有助于克服行业的高进入壁垒

在电动汽车（EV）应用中采用SiC技术的推动下，SiC功率器件市场正在快速增长。2021，SiC功率器件市场收入超过10亿美元，主要由位于欧洲（意法半导体、英飞凌）、美国（Wolfspeed、onsemi）和日本（Rohm Semiconductor、三菱电气、富士电气）的公司赚取。

Yole Dédevelopement最近预测，未来几年SiC功率器件市场将达到数十亿美元，2027年将超过60亿美元，2021-2027年预计复合年增长率为34%。

但SiC晶圆业务的进入壁垒非常高，目前能够为功率器件制造商大规模生产大面积高质量SiC晶圆的公司数量有限就是明证，因为他们需要能够符合电动汽车行业预期的严格器件要求。

Knowmade发布的一份新的SiC知识产权（IP）报告，旨在全面了解整个价值链上的功率SiC专利前景，从SiC晶碇、衬底、外延到器件、模块和电路。

“专利格局分析是一个强大的工具，可以在新兴行业的新参与者进入市场之前就发现他们，同时更好地了解他们在特定技术方面的专业知识和诀窍。总的来说，Knowmade 和电子技术和专利分析师Rémi Comyn表示：“这反映了一个国家或参与者在特定技术上的研发投资水平，同时也暗示了主要IP参与者达到的技术准备水平。此外，价值链上的技术覆盖率和专利组合的地理覆盖率与IP参与者的业务战略密切相关。”

尽管历史上的IP厂商（Wolfspeed、SiCrystal、II-VI）不断申请新专利，表明其技术不断改进，但住友电气和昭和电工在SiC衬底专利领域占据了IP领先地位。

Knowmade的专利分析确定了大量SiC专利领域的知名IP参与者，他们拥有加入或分拆SiC晶圆业务新公司的专业知识和诀窍，就像SKC于2021成立Senic一样。特别是在中国，有许多从事衬底研发的IP公司，其中一些公司目前在SiC晶体专利领域（天岳、同光、天科合达、三安）表现突出。

Knowmade还确定了从事颠覆性技术开发的主要公司，这些公司解决了SiC晶圆的成本和可用性问题（Soitec、Toyota Tsusho/Kwansei Gakuin大学、Sumitomo Metal Mining/Sicoxs、Infineon/Siltectra等）。

虽然许多公司正致力于构建垂直整合的供应链，以确保其SiC业务的长期安全，但很少有公司在整个SiC价值链上开发出强大的专利组合，日本的丰田和电装是例外。

许多公司可能没有预料到欧洲或中国是功率SiC业务的关键市场，因此需要加强其在这些地区的知识产权地位。因此，大多数领先公司需要将内部创新能力与外部创新源相结合，例如通过并购运营（如onsemi/GTAT、ST/Norstel、Wolfspeed/APEI、Danfoss/Semikron）、许可协议（如II-VI/GE）或知识产权合作（如丰田/电装、奥迪/ABB），以加速其SiC技术的部署。

“更重要的是，全球创新战略不仅在建立垂直整合的生产线方面很重要，从而削减供应商利润率并在内部确保供应链的安全；它还使参与者在发展过程中不受供应链不同层次从材料优化到模块集成技术和成本壁垒的限制，”Comyn说：“因此，在供应链的各个阶段拥有关键专利的老牌企业可以期望在市场上获得长期竞争优势，而新来者在行业面临着特别高的进入壁垒。”在这方面，SiC专利格局报告描述了主要参与者的知识产权战略，以强化其对整个SiC价值链关键技术的获取。

在这份SiC专利前景报告中，Knowmade将其调查重点放在了塑造中国新兴SiC供应链的中国参与者身上。中国企业正在加速其专利活动，以支持技术的发展，更重要的是支持一个完整的国内供应链的出现，并确保其功率半导体产品线的安全。

中国专利申请人覆盖了整个供应链，包括各细分市场上相对成熟的IP参与者，参与者种类繁多（学术、工业、代工、IDM、集成商、纯玩家等），以及密集的IP合作和IP传输网络。因此，在供应链的大多数环节，与外国供应商的技术差距有望缩小。中国申请人在功率SiC供应链上的专利组合细分（见下文）表明，在知识产权方面，许多中国公司目前都涉足了供应链的各个环节。Comyn最近发表了一篇文章，重点关注了中国SiC专利格局。

本SiC知识产权报告的很大一部分致力于深入分析前十大知识产权公司和前六大功率器件市场公司所拥有的SiC专利组合：三菱电气、住友电气、英飞凌、Rohm、丰田/电装、Wolfspeed、富士电气、日立、东芝、意法半导体、onsemi、松下。Knowmade的知识产权分析师概述了专利组合（知识产权动态、可执行性、受保护国家、技术），重点介绍了参与者的知识产权战略、实力及其强化潜力。然后，根据与SiC相关的最新公告和相关挑战，审查其最近的专利活动。

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