填补国内光掩模材料空白，5亿元半导体光掩模材料国产化项目落户长沙

日前，半导体光掩模材料国产化项目签约落户湖南长沙浏阳高新区。

据新湖南报道，该项目总投资5亿元，其中一期投资5000万元，将主要从事半导体光掩模材料研发、生产和销售，项目产品能够填补国内0.25微米至14纳米新一代半导体和集成电路工艺技术节点光掩模材料的空白，为浏阳高新区碳基材料产业链强链、补链。

据悉，半导体光掩模材料国产化项目由湖南韶锦微电子科技有限公司、国家高效磨削工程技术研究中心相关技术团队、韩国技术团队多方合作，将在园区建成一条年产4万片的半导体光掩模材料国产化全自动生产线。合作方之一的韩国技术团队曾填补了韩国半导体光掩模基板的空白，有力支撑了韩国三星、海力士等芯片企业发展。

来源：爱集微