公司宣布RIE-10NR研发系统的出货量达到500台
上图:2023年10月13日星期五,Samco总裁兼首席运营官Tsukasa Kawabe(左中)向理化学研究所团队负责人Michihisa Yamamoto(右中)颁发纪念礼物,庆祝第500台RIE-10NR的安装。
RIE-10NR电容耦合等离子(CCP)型反应离子蚀刻(RIE)研发系统是Samco广为人用的系统,其出货量已达到500台的里程碑。
理化学研究所新兴物质科学中心量子电子器件研究团队负责人Michihisa Yamamoto监督了第500台RIE-10NR的安装,并接待了Samco总裁兼首席运营官Tsukasa Kawabe的访问。
理化学研究所量子电子器件研究团队利用RIE-10NR的功能对二维材料器件进行选择性蚀刻。在纪念会上,Michihisa Yamamoto发表了以下感言:
“我们利用RIE-10NR蚀刻六方氮化硼(hBN),其中六方氮化硼是一种绝缘材料,夹在石墨烯周围,以促进石墨烯接触提取。RIE-10NR是我们的首选,因为它能够进行选择性蚀刻,并具有极高的可重复性。值得注意的是,我之前在东京大学任职期间使用过一款较老的RIE-10NR型号,可追溯到1998年。令人惊讶的是,直到今天,东京大学的其他教授仍在继续使用它。多年来,RIE-10NR出色的可靠性赢得了我坚定不移的信任。”
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