企业新闻详细内容

纳设智能首台原子层沉积设备顺利出货，开启纳米级材料设备新篇章！

材料来源：雅时

近日，纳设智能在先进材料制造装备领域迈出了重要一步——自主研发的首台原子层沉积设备已经完成了所有生产和测试流程，顺利出货！

原子层沉积（Atomic Layer Deposition，简称ALD）是一种薄膜沉积技术，可归于化学气相沉积大类。相对于一般化学气相沉积，其具有独特的表面自限制化学效应，因而可以逐个原子层生长各种化合物或单质薄膜材料，实现更精确的厚度控制。该技术制备的薄膜具有良好的的厚度均匀性，优异的一致性，突出的三维保型性，可用于各类衬底材料的薄膜沉积。

纳设智能利用自身在半导体外延设备、化学气相沉积技术等方面积累的经验及软硬件基础，推出了规格更严、性能更优的ALD设备。

纳设智能的ALD设备可对玻璃、硅片等衬底材料进行超薄氧化物、氮化物等材料的镀膜，可以制备出均匀性好、保形性优、致密性佳的薄膜材料，可应用于对超薄薄膜（1nm~50nm）有需求的各个领域。

纳设智能成功推出ALD设备，体现了纳设智能在先进制程设备领域的创新实力。未来，纳设智能将不断追求卓越，寻求更优化的工艺参数和更高效的设备设计，以提供更精确、更稳定的薄膜沉积解决方案，为行业带来更多创新和进步。

【近期会议】

2024年3月29日14:00，雅时国际商讯联合Park原子力显微镜、蔡司、九峰山实验室即将举办“缺陷检测半导体材料和器件研发和生产的利器”专题会议，助力我国宽禁带半导体行业的快速健康发展！诚邀您参与交流：https://w.lwc.cn/s/IJnYR3

上一篇：Silanna在CES上展示获奖...

下一篇：Coherent的SiC业务已获...

声明：本网站部分文章转载自网络，转发仅为更大范围传播。转载文章版权归原作者所有，如有异议，请联系我们修改或删除。联系邮箱：lynnw@actintl.com.hk