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最新突破 | 纳设智能成功研发8英寸 外延设备！
材料来源：纳设智能
随着SiC应用领域的扩展，需求的激增，产业对于SiC外延片品质和产能要求不断提高，SiC外延设备也就占据了产业链上游关键环节。
近日，纳设智能成功研制出更大尺寸具有更多创新技术的8英寸
外延设备，此设备具备独特反应腔室设计、可独立控制的多区进气方式、以及智能的控制系统，将更好的提高外延片的均匀性，降低外延缺陷及生产中的耗材成本。
目前，6英寸
技术已经趋向成熟，产业正在向8英寸迈进，相信在不久的将来会进入8英寸时代。晶圆尺寸越大，外延工艺难度也就越大，必然对设备提出更高的要求，正所谓“一代设备，一代工艺”，纳设智能开发的8英寸
外延设备顺应了产业向更大尺寸的发展趋势，在技术上具有前瞻性，同时能够向下兼容6英寸外延，非常符合当前市场对于6英寸和8英寸兼容的需求。
在技术上，纳设智能持续围绕提升工艺指标、降低耗材成本和维护频次方面进行产品的迭代优化，不断在反应室系统，气体输运系统和整体软件系统等方面进行技术创新。目前，纳设智能已实现8英寸
外延设备的交付，该设备在客户现场生产的外延片厚度不均匀性≤2%，浓度不均匀性~4%，表面粗糙度≤0.3cm-2，缺陷控制良好。
纳设智能以市场需求为导向研发新装备，解决一批核心问题，形成一批自有技术，相关技术指标的突破，标志着纳设智能已成功掌握8英寸SiC外延设备相关技术，可为行业提供更为先进的技术支持，进一步提高我国
产业自主创新能力，促进第三代半导体产业的发展。
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