为MBE制定新标准

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外延设备制造商Riber宣布与IntelliEPI联合开发项目的重要里程碑，即新型MBE 8000生产平台达标。

据说Riber的新旗舰产品MBE 8000是市场上容量最大的MBE生产工具，能够分批处理8个150毫米（6英寸）或4个200毫米（8英寸）的晶圆片。该机器的设计得益于20多年生产MBE系统的经验。

生产出第一个MBE 8000平台并与IntelliEPI密切合作进行达标鉴定工作后，Riber表示，所获得的结果超出了预期，特别是在均匀性、缺陷密度、产量增加和界面陡峭度方面，对超晶格结构实现高性能激光器至关重要。

据该公司称，这些性能数据与大规模生产中高水平的run-to-run重复性控制相结合，将产生新一代激光器，特别是VCSEL技术，在智能手机屏下人脸识别领域具有巨大市场机会。

除了VCSEL市场，MBE 8000平台拥有对掺杂均匀性和工艺稳定性的精确控制，也将提高微电子器件的性能，如电导率。

Riber说，在过去几个月里，随着将结果展示给几个工业客户，人们对这台机器的兴趣迅速增长，引发了潜在购买的讨论。

IntelliEPI董事长兼首席执行官Yung-Chung Kao表示，“从目前的初步评估来看，这款Riber MBE 8000具有出色性能，能在8x6英寸大面积的衬底上生产具有出色构成和厚度均匀性的高质量外延材料。通过这一改进，MBE 8000平台提供了一种解决方案，使大规模生产MBE的技术更具竞争力，尤其在高性能和高吞吐量市场机会方面。”

Riber首席执行官christian Dupont表示，“感谢Riber和IntelliEPI团队的努力，我们在MBE 8000达标方面迈出了重要一步。机器产生的结果超出了我们最初的目标。MBE 8000设备具有最佳的拥有成本，容量大，具有强大的商业前景。此外，我们在与IntelliEPI的联合开发项目中达到的里程碑，显示了将MBE技术引入大批量半导体行业的能力。”

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